1年免費(fèi)保修服務(wù) 
售后1天內(nèi)解決 
長(zhǎng)期跟蹤質(zhì)量服務(wù) 
購(gòu)臭氧發(fā)生器送配件 
全國(guó)配送 ?
JELIGHT UVO-Cleaner Model 42 紫外臭氧清洗機(jī)簡(jiǎn)介UV+O(原子氧)清潔法是一種光敏氧化過(guò)程，其中光抗蝕劑、樹(shù)脂、人體皮膚油、清潔溶劑殘留物、硅油和助熔劑的污染物分子通過(guò)短波紫外線輻射的吸收被激發(fā)和/或解離。分子氧經(jīng)184.9nm分解，臭氧經(jīng)253.7nm分解，同時(shí)生成原子氧。253.7nm輻射被大多數(shù)碳?xì)浠衔锖统粞跷?。污染物分子的這種激發(fā)產(chǎn)物與氧原子反應(yīng)，形成更簡(jiǎn)單的揮發(fā)性分子，從表面解吸。因此，當(dāng)兩種波長(zhǎng)同時(shí)存在時(shí)，原子氧不斷產(chǎn)生，臭氧不斷形成和破壞。通過(guò)將適當(dāng)?shù)念A(yù)清潔樣品放置在臭氧產(chǎn)生UV源的5毫米范圍內(nèi)，例如UVO-Cleaner®內(nèi)部的低壓汞蒸汽網(wǎng)格燈，可以在不到一分鐘的時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)接近原子清潔的表面。此外，該工藝不會(huì)損壞MOS柵氧化物的任何敏感器件結(jié)構(gòu)。ufo - cleaner®是去除硅，砷化鎵，石英，藍(lán)寶石，玻璃，云母，陶瓷，金屬和導(dǎo)電聚酰亞胺水泥中的有機(jī)污染物的安全，有效的方法。它的建造壽命長(zhǎng)，維護(hù)成本低，服務(wù)無(wú)故障。應(yīng)用程序:•在薄膜沉積/剝離和穩(wěn)定光刻膠之前清洗襯底•硅片、透鏡、反射鏡、太陽(yáng)能電池板、冷軋鋼、慣性制導(dǎo)子組件和GaAs晶圓的清洗•焊劑、混合電路和平板LCD的清洗•蝕刻Teflon®，Viton®和其他有機(jī)材料•增強(qiáng)GaAs和Si的氧化鈍化表面•減少玻璃的放氣去除晶圓膠帶•提高涂料對(duì)塑料的附著力•測(cè)試后從晶圓上去除油墨•剝離光刻膠•從光刻板中去除潛在圖像•清洗光刻版•在硅片上生長(zhǎng)氧化層•在包裝/粘合前清洗電路板•增加表面親水特性•生物科學(xué)應(yīng)用的清洗和滅菌•清洗電子顯微鏡探針/載玻片或光纖/透鏡紫外清洗優(yōu)點(diǎn)1. 被清洗的表面除了光子，不與任何物體發(fā)生接觸，有機(jī)物經(jīng)過(guò)紫外光照射發(fā)生光敏氧化反應(yīng)后，生成可揮發(fā)性氣體 （CO2、CO、H2O） 等從表面消散，隨著排風(fēng)系統(tǒng)抽走。2. 表面潔凈度高，且不會(huì)像溶液清洗時(shí)發(fā)生二次污染。3. 光清洗的表面不會(huì)受到損傷，由于光子的能量相對(duì)比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小，光清洗后的表面不會(huì)受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象。4. 光清洗對(duì)物體表面微細(xì)部位（如孔穴、微細(xì)溝槽等）具有有效而徹底的清洗效果。 由于紫外光是納米短波紫外線，能夠射入材料表面的極為細(xì)微的部位，發(fā)生光敏氧化反應(yīng)，充分表現(xiàn)出光清洗的徹底性。可選設(shè)備：所有裝置均配有臭氧殺滅器和鼓風(fēng)機(jī)套件，無(wú)需外部排氣即可使用該裝置。臭氧殺手將解離排氣中的微量臭氧，而鼓風(fēng)機(jī)將增加排氣流量。單位尺寸可根據(jù)客戶需求定制?？赡苄枰Ц额~外費(fèi)用。設(shè)備提供以下電源配置：120V/60Hz 220V/50Hz220V/60Hz100V 50/60Hz**臭氧濃度以及樣品與紫外線源之間的距離會(huì)極大地影響清潔速率。
Outer DimensionsLength Width Height Exhaust Port Media Inlet Port (2x)350 mm 220 mm 225 mm 50.8 mm 9.5 mm
Tray DimensionsWidth Length Height (Adjustment Range)165 mm 165 mm] 6 mm ~ 38 mm
Grid LampType Average Intensity Distance Measured Away From LampLow Pressure Mercury (Hg) Vapor 28 ~ 32 mW/cm² @ 253.7 nm .12” ~ .20” [3 ~ 5 mm]
Electrical CharacteristicsOutput PowerVoltage Current6000 Vpeak-peak 30 mA
Available Input Power RequirementsModel Voltage Frequency Current42 120 VAC 60 Hz 2.0 A42-220 220 VAC 50 Hz 3.0 A42-220-60 220 VAC 60 Hz 2.0 A42-100 100 VAC 50/60 Hz 2.0 A42 W/ ELAPSE TIMER 120 VAC, 220VAC 60 Hz, 50Hz 2.0 A, 3.0A
與UVO-Cleaner Model 42 紫外臭氧清洗機(jī)相關(guān)的實(shí)驗(yàn)現(xiàn)場(chǎng)
Q：河網(wǎng)水中COD＞6，臭氧投加量需要多少呢
A：河網(wǎng)水中COD＞6，臭氧投加量需要多少呢 河網(wǎng)水和湖庫(kù)水，還有純凈水，泳池水等，臭氧投加量；
Q：O3+UV降解耐臭氧微量有機(jī)污染物（OR-MOPs）研究
A：O3+UV降解耐臭氧微量有機(jī)污染物（OR-MOPs）研究 一、摘要 臭氧(O3)已被廣泛應(yīng)用于水深度處理中；
Q：臭氧處理的常見(jiàn)污染物以及氧化產(chǎn)生的副產(chǎn)品介
A：臭氧處理的常見(jiàn)污染物以及氧化產(chǎn)生的副產(chǎn)品介紹 下面列出了用臭氧處理的常見(jiàn)污染物以及氧；
Q：Purenanotech PNT納米氣泡機(jī)的不同之處
A：Purenanotech PNT納米氣泡機(jī)的不同之處 市場(chǎng)上可用的大多數(shù)精細(xì)氣泡發(fā)生器都是用于產(chǎn)生微氣泡的；
Q：臭氧微納米氣泡機(jī)處理中藥廢水研究?jī)?nèi)容
A：臭氧微納米氣泡機(jī)處理中藥廢水實(shí)驗(yàn)研究 隨著生活水平的提高，人們對(duì)醫(yī)藥衛(wèi)生服務(wù)的需求也；
Q：電暈放電臭氧發(fā)生器工作原理
A：臭氧發(fā)生器通過(guò)使氧氣或干燥的空氣通過(guò)高壓電場(chǎng)或電暈產(chǎn)生臭氧。O2鍵分裂，釋放出氧原子（；
Q：臭氧納米氣泡機(jī)的優(yōu)勢(shì)
A：臭氧納米氣泡機(jī)的優(yōu)勢(shì) 近年來(lái)，包括臭氧納米氣泡在內(nèi)的基于納米氣泡的方法已廣泛用于水、；
Q：納米氣泡機(jī)可以延長(zhǎng)臭氧在水中的半衰期嗎
A：納米氣泡機(jī)可以延長(zhǎng)臭氧在水中的半衰期嗎 臭氧納米氣泡是直徑小于 0.0002 毫米的微小氣泡，；
Q：臭氧氧化印染工業(yè)園廢水影響因素研究
A：臭氧氧化印染工業(yè)園廢水影響因素研究 印染廢水具有污染物成分復(fù)雜、高色度、高濁度、高；
Q：臭氧處理絮凝膜濃縮物中OBPs的分子特征和形成研究
A：臭氧處理絮凝膜濃縮物中OBPs的分子特征和形成研究 垃圾滲濾液是在垃圾填埋場(chǎng)和廢物發(fā)電廠；
Q：催化劑制備工藝和反應(yīng)操作條件對(duì)廢水COD去除率的影響
A：催化劑制備工藝和反應(yīng)操作條件對(duì)廢水COD去除率的影響 近年來(lái)，難降解有機(jī)污染物的降解問(wèn)題；
Q：臭氧與過(guò)氧化鈣(O3/CaO2)降解甲基紅染料廢水研究
A：紡織品印染廢水排放量大,組成復(fù)雜,污染物濃度高,其中含有大量結(jié)構(gòu)復(fù)雜的染料和化合物[1].色；
Q：CuMn2O4 催化臭氧氧化實(shí)驗(yàn)材料與方法
A：CuMn2O4 催化臭氧氧化實(shí)驗(yàn)材料與方法 近年來(lái)，由于高級(jí)氧化技術(shù)可以產(chǎn)生大量活性氧組分 (RO；
Q：催化臭氧氧化法處理煤化工高鹽廢水效能分析
A：催化臭氧氧化法處理煤化工高鹽廢水效能分析 1、廢水水質(zhì)分析 實(shí)驗(yàn)用水為中國(guó)石化長(zhǎng)城能源；
Q：臭氧處理對(duì)SARS-CoV-2污染個(gè)人防護(hù)用品的影響
A：臭氧處理對(duì)SARS-CoV-2污染個(gè)人防護(hù)用品的影響 摘要: 背景:嚴(yán)重急性呼吸綜合征冠狀病毒2 (SARS-；
Q：【ESE研究論文】臭氧催化劑定制化制備方法
A：【ESE研究論文】基于熒光光譜和機(jī)器學(xué)習(xí)的臭氧催化劑定制化制備方法 文章亮點(diǎn) 1. 臭氧催化劑；
?? 
?? 
?? 
